国内缺芯潮下，国内包括半导体专用设备制造商等产业链公司备受市场关注。据拓荆科技股份有限公司（下称“拓荆科技”，688072）最新公告显示，在过去的2月，超过260家机构参与了该公司的投资者交流活动。公司董事长吕光泉、董事会秘书赵曦等人参与了接待。
拓荆科技成立于2010年4月，总部位于沈阳市浑南区，是国家高新技术企业，聚焦研发和生产半导体薄膜沉积设备，该设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司现已形成等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，并广泛用于国内集成电路制造产线。
2022年4月，拓荆科技正式登陆科创板。上市以来，该公司股价已累计上涨超过280%。截至3月7日当天收盘，该公司股价下跌4.46%至275.88元/股。
半导体行业是典型的周期性行业，整体来看仍呈现增长的趋势
过去的2022年，拓荆科技实现营业收入17.06亿元，和上年同期相比（同比）增长125.02%；实现归属于母公司所有者的净利润3.69亿元，同比增长438.09%；实现归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润1.78亿元，实现扭亏为盈。
拓荆科技方面称，公司2022年营业收入和利润高速增长主要原因为，受益于国内主要晶圆厂半导体设备需求增加，同时公司继续加大产品研发投入，产品结构不断优化，产品竞争力持续增强，并进一步拓展客户群体，销售订单大幅增加，营业收入维持高增长趋势。
同时，公司持续加大研发投入，收入规模不断扩大，期间费用率相对有所下降，规模效应驱动公司盈利水平提高，归属于上市公司股东的净利润和归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润同比有较大幅度提升。
而对于近期的经营情况，拓荆科技方面称，目前公司主要产品包括PECVD、ALD和SACVD三个产品系列，公司产品研发、验证工作均在正常推进，同时，积极跟进客户的扩产节奏签署订单、交付设备产品，持续提升公司成熟产品的市场占有率。目前公司在手订单饱满。
在被问及如何看待国内半导体设备行业的周期趋势时，拓荆科技称，半导体行业是典型的周期性行业，纵观半导体行业的发展历史，虽然行业呈现明显的周期性波动，但整体来看仍呈现增长的趋势。
拓荆科技认为，国家战略聚焦，巨大市场支撑，晶圆厂数量仍不断增加，将带动半导体设备需求量的增加。
据公司此前披露，截至目前，其产品已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、中国台湾等20多个地区的60条生产线。
对于公司产品的市占率，拓荆科技此次称，公司产品在客户端产线的应用量越来越多，但尚未具体统计产品在客户端的占比情况。目前公司产品主要应用于国内晶圆厂，未来几年公司产品的需求量仍以国内晶圆厂的扩产为主。
未来将结合业务发展情况适时进行产能扩充
此前的1月20日，拓荆科技曾公告披露，根据未来发展规划，拟出资人民币5亿元设立全资子公司拓荆科技（沈阳）有限公司，主要围绕公司现有主营业务开展相关经营活动，从事高端半导体薄膜沉积设备的研发、生产、销售与技术服务。
公司此次表示，该子公司的成立是基于公司未来发展规划的考虑，有利于促进公司未来发展战略的实施，围绕主营业务不断扩大规模，在高端半导体薄膜设备领域持续深耕，围绕CVD技术做深做精，并不断在细分领域内拓展产品、工艺的覆盖面，增强公司盈利能力，提升公司的综合竞争力。
就目前的产能情况而言，该公司在沈阳总部、上海临港都建有薄膜沉积设备的研发生产基地。拓荆科技称，这些生产基地可以满足公司目前的产能需求。
同时，拓荆科技基于超募项目“半导体先进工艺装备研发与产业化项目”，将在上海临港再建设一个研发与产业化基地。未来，公司将结合业务发展情况适时进行产能扩充。
去年8月，在临港新片区三周年重点项目投用仪式现场，拓荆科技（上海）有限公司总经理庄杨曾透露，该公司在临港投资2.7亿元的一期建设项目目前已按照计划顺利完成，而另一新项目彼时正在计划和评估当中，投资规模远超一期，“一旦批准，不久就会在临港启动实施。”
庄杨当时在现场表示，半导体产业现已成为最核心的战略阵地，“我们现在也在考虑如何能够更快地发展、研发更多的先进设备，来完成我们补齐中国半导体短板的任务。”
对于目前公司设备与海外相比优势和差异何在？拓荆科技此次在活动记录表中称，目前公司成熟产品的核心技术及关键性能指标均已达到国际先进水平。而作为本土供应商，其优势在于可以为客户提供定制化产品，满足客户差异化需求，并提供及时、快速的售后服务。
而对外界担忧和关心的供应链安全性问题，拓荆科技回应称，公司已经建立了全球范围内的供应链资源，搭建了稳定的供应链结构，并采取多货源的供应商管理策略，目前供应链合规安全稳定，未对公司设备交付产生实质影响。
