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清溢光电：已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的客户测试认证及量产

作者: hao333 发布:2023-09-13 14:45:52 9352阅读 1126评论

清溢光电9月13日在互动平台表示，半导体芯片掩膜版技术方面，公司已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的客户测试认证及量产，正在开展130nm-65nm半导体芯片掩膜版的工艺研发和28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。

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清溢光电：已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的客户测试认证及量产

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