武陵观察网 财经 ASML回应荷兰半导体出口管制新规:并不适用于所有浸入式光刻设备

ASML回应荷兰半导体出口管制新规:并不适用于所有浸入式光刻设备

3月9日上午,荷兰光刻机巨头阿斯麦发布声明表示,ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。同时公司还表示“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统,先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。”荷兰政府在3月8日表示,计划对半导体技术出口实施新的管制。

本文来自网络,不代表本站立场,转载请注明出处:https:

ASML回应荷兰半导体出口管制新规:并不适用于所有浸入式光刻设备

武陵观察网后续将为您提供丰富、全面的关于ASML回应荷兰半导体出口管制新规:并不适用于所有浸入式光刻设备内容,让您第一时间了解到关于ASML回应荷兰半导体出口管制新规:并不适用于所有浸入式光刻设备的热门信息。小编将持续从百度新闻、搜狗百科、微博热搜、知乎热门问答以及部分合作站点渠道收集和补充完善信息。